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华尔街见闻 7×24(全球)·· 3 小时前AI 评分18

华为半导体黄宇:韬定律最大挑战在于EDA工具

AI 导读

10月15日,在2026湾芯展上,华为半导体EDA首席科学家黄宇表示,韬定律最大挑战在于EDA工具。他称韬定律主要分四层:最基础的器件层,优化晶体管结构和互联方式;第二层链路层是华为最大的创新点;第三层芯片层做软硬件协同设计;第四层系统层涉及超级节点、机柜互联。

来源:华尔街见闻 7×24(全球) · wallstreetcn.com